К ВОПРОСУ ВОЗДЕЙСТВИЯ НА ОБРАБАТЫВАЕМЫЕ ПОВЕРХНОСТИ ЭЛЕКТРОННЫМИ И ИОННЫМИ ПУЧКАМИ
Боковая панель статьи
Основное содержимое статьи
Аннотация
Описываются процессы взаимодействия электронных и ионных пучков с обрабатываемой поверхностью, воздействие налетающих частиц на элементы вещества, основные характеристики процессов влияния пучков на поверхность. Рассмотрены зависимости энергетических потерь нале-тающих частиц от глубины проникновения в обрабатываемое вещество, зависимости коэффициента эмиссии и тормозных способностей от энергии ускоренных частиц. Описано влияние газа и давления на область обрабатываемой поверхности при ионном распылении. Приведены некоторые результаты экспериментальных исследований, полученных для разработанного макета плазменного источника низкоэнергетичных ионно-электронных совмещенных в пространстве пучков.
Информация о статье
Библиографические ссылки
1. Крейндель, Ю. Е. Плазменные источники электронов / Ю. Е. Крейндель. – М. : Атом-издат, 1977. – 144 с.
2. Источники электронов с плазменным эмиттером / Ю. Е. Крейндель [и др.]. – Ново-сибирск : Наука, 1983. – 120 с.
3. Физика и технология плазменных эмиссионных систем / под общ. ред. В. Т. Барченко. – СПб. : Изд-во Санкт-Петерб. гос. электротехн. ун-та «ЛЭТИ», 2014. – 286 с.
4. Плазменные процессы в технологических электронных пушках / М. А. Завьялов [и др.]. – М. : Энергоатомиздат, 1989. – 256 с.
5. Новиков, А. А. Источники электронов высоковольтного тлеющего разряда с анодной плазмой / А. А. Новиков. – М. : Энергоатомиздат, 1983. – 96 с.
6. Окс, Е. М. Источники электронов с плазменным катодом / Е. М. Окс. – Томск : НТЛ, 2005. – 216 с. 7. Ионно-плазменные технологии в электронном производстве : моногр. / В. Т. Барченко, Ю. А. Быстров, Е. А. Колгин ; под ред. Ю. А. Быстрова. – СПб. : Энергоатомиздат, 2001. – 331 с.
8. Вендик, О. Г. Корпускулярно-фотонная технология / О. Г. Вендик, Ю. Н. Горин, В. Ф. Попов. – М. : Высш. шк., 1984. – 240 с.
9. Рыкалин, М. М. Основы электронно-лучевой обработки материалов / М. М. Рыкалин, И. В. Зуев, А. А. Углов. – М. : Машиностроение, 1978. – 239 с.
10. Габович, М. Д. Физика и техника плазменных источников ионов / М. Д. Габович. – М. : Атомиздат, 1972. – 304 с.
11. Браун, Я. Физика и технология источников ионов / Я. Браун. – М. : Мир, 1998. – 495 с.
12. Романов, В. С. Прохождение заряженных частиц через вещество / В. С. Романов, С. В. Стародубцев. – Ташкент : Изд-во ФАН, 1962.
13. Данилин, Б. С. Ионное травление микроструктур / Б. С. Данилин, В. Ю. Киреев. – М. : Совет. радио, 1979. – 104 с.
14. Груздев, В. А. Моделирование температурного поля в поверхностном слое при импульсном электронно-лучевом воздействии / В. А. Груздев, В. Г. Залесский, Д. Г. Руголь // Инженерно-физический журнал. – 2007. – № 2. – С. 134–142.
15. Патент BY 23743, МПК H 01J 37/30. Плазменный источник электронно-ионных пучков / Антонович Д. А, Груздев В. А., Залесский В. Г., Солдатенко П. Н., Голубев Ю. П. // Афiцыйны бюлетэнь Нац. цэнтра iнтэлектуал. уласнасцi. – 2022. – № 3 (146). – С. 65.
16. Antonovich, D. A. Features of Electron Optical Systems with the Plasma Emitter Based on Stationary Double Electric Layers in the Plasma / D. A. Antonovich, V. A. Gruzdev, V. G. Zalesski // Russian Physics Journal. – 2021. – Vol. 63, nr 10, February. – P. 1713–1720.
17. Антонович, Д. А. Электронно-ионный источник для реализации комбинированного воздействия на поверхность / Д. А. Антонович, В. А. Груздев, В. Г. Залесский // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки. – 2014. – № 4. – С. 119–124.