TO THE QUESTION OF IMPACT ON PROCESSED SURFACES BY ELECTRON AND ION BEAMS
Article Sidebar
Main Article Content
Abstract
This article describes the processes of interaction of electron and ion beams with the surface being processed, the impact of incident particles on the elements of matter, and the main characteristics of the pro-cesses of beam influence on the surface. The dependences of the energy losses of incident particles on the depth of penetration into the substance being processed, the dependences of the emission coefficient and stopping power on the energy of accelerated particles are considered. The influence of gas and pressure on the area of the surface being processed during ion sputtering is described. Some results of experimental studies obtained for the developed model of a plasma source of low-energy ion-electron beams combined in space are presented.
Article Details
References
1. Крейндель, Ю. Е. Плазменные источники электронов / Ю. Е. Крейндель. – М. : Атом-издат, 1977. – 144 с.
2. Источники электронов с плазменным эмиттером / Ю. Е. Крейндель [и др.]. – Ново-сибирск : Наука, 1983. – 120 с.
3. Физика и технология плазменных эмиссионных систем / под общ. ред. В. Т. Барченко. – СПб. : Изд-во Санкт-Петерб. гос. электротехн. ун-та «ЛЭТИ», 2014. – 286 с.
4. Плазменные процессы в технологических электронных пушках / М. А. Завьялов [и др.]. – М. : Энергоатомиздат, 1989. – 256 с.
5. Новиков, А. А. Источники электронов высоковольтного тлеющего разряда с анодной плазмой / А. А. Новиков. – М. : Энергоатомиздат, 1983. – 96 с.
6. Окс, Е. М. Источники электронов с плазменным катодом / Е. М. Окс. – Томск : НТЛ, 2005. – 216 с. 7. Ионно-плазменные технологии в электронном производстве : моногр. / В. Т. Барченко, Ю. А. Быстров, Е. А. Колгин ; под ред. Ю. А. Быстрова. – СПб. : Энергоатомиздат, 2001. – 331 с.
8. Вендик, О. Г. Корпускулярно-фотонная технология / О. Г. Вендик, Ю. Н. Горин, В. Ф. Попов. – М. : Высш. шк., 1984. – 240 с.
9. Рыкалин, М. М. Основы электронно-лучевой обработки материалов / М. М. Рыкалин, И. В. Зуев, А. А. Углов. – М. : Машиностроение, 1978. – 239 с.
10. Габович, М. Д. Физика и техника плазменных источников ионов / М. Д. Габович. – М. : Атомиздат, 1972. – 304 с.
11. Браун, Я. Физика и технология источников ионов / Я. Браун. – М. : Мир, 1998. – 495 с.
12. Романов, В. С. Прохождение заряженных частиц через вещество / В. С. Романов, С. В. Стародубцев. – Ташкент : Изд-во ФАН, 1962.
13. Данилин, Б. С. Ионное травление микроструктур / Б. С. Данилин, В. Ю. Киреев. – М. : Совет. радио, 1979. – 104 с.
14. Груздев, В. А. Моделирование температурного поля в поверхностном слое при импульсном электронно-лучевом воздействии / В. А. Груздев, В. Г. Залесский, Д. Г. Руголь // Инженерно-физический журнал. – 2007. – № 2. – С. 134–142.
15. Патент BY 23743, МПК H 01J 37/30. Плазменный источник электронно-ионных пучков / Антонович Д. А, Груздев В. А., Залесский В. Г., Солдатенко П. Н., Голубев Ю. П. // Афiцыйны бюлетэнь Нац. цэнтра iнтэлектуал. уласнасцi. – 2022. – № 3 (146). – С. 65.
16. Antonovich, D. A. Features of Electron Optical Systems with the Plasma Emitter Based on Stationary Double Electric Layers in the Plasma / D. A. Antonovich, V. A. Gruzdev, V. G. Zalesski // Russian Physics Journal. – 2021. – Vol. 63, nr 10, February. – P. 1713–1720.
17. Антонович, Д. А. Электронно-ионный источник для реализации комбинированного воздействия на поверхность / Д. А. Антонович, В. А. Груздев, В. Г. Залесский // Вестник Полоцкого государственного университета. Серия С. Фундаментальные науки. – 2014. – № 4. – С. 119–124.