Диффузионные процессы в тонкоплёночных структурах

##plugins.themes.bootstrap3.article.sidebar##

Прагляды: 97
Загрузкі: 50
PDF (Русский)
Апублікаваны: сту 1, 2011

##plugins.themes.bootstrap3.article.main##

Д.В. Адамчук
БрГУ имени А.С.Пушкина
В.С. Костко
БрГУ имени А.С.Пушкина

Анатацыя

Приводятся результаты экспериментального анализа структур полупроводник-металл-диэлектрик (ПМД) методами рентгеновской фотоэлектронной (РФС) и оже-спектроскопии (ЭОС), теоретического описания диффузионных процессов, происходящих в тонкопленочных структурах ПМД, изготовленных последовательным термическим вакуумным напылением на диэлектрик тонких пленок металла (Сd) и полупроводника (SnI2).

##plugins.themes.bootstrap3.article.details##

Як цытаваць
[1]
Адамчук, Д. and Костко, В. 2011. Диффузионные процессы в тонкоплёночных структурах. Веснік Брэсцкага ўніверсітэта. Серыя 4. Фізіка. Матэматыка. 1 (Jan. 2011), 5–16.
Выпуск
№ 1 (2011): Веснік Брэсцкага ўніверсітэта. Серыя 4. Фізіка. Матэматыка
Раздзел
ФІЗІКА