Генерирование и пробег двойникующих дислокаций в условиях электропластичности

Анатацыя

В работе представлены результаты экспериментального исследования кинетики развития двойникования в кристаллах висмута при возбуждении электронной подсистемы металла импульсами тока. Приведен сравнительный анализ стартовых напряжений двойникующих дислокаций в условиях электропластичности металла. Показано, что с ростом плотности тока в импульсе стимулируются процессы генерирования двойникующих дислокаций и их трансляция вдоль готовой поверхности раздела, что открывает возможности дополнительной пластификации двойникующего материала.