Диффузионные процессы в тонкоплёночных структурах - Адамчук, Д.В.; Костко, В.С. (Веснік Брэсцкага ўніверсітэта. Серыя 4. Фізіка. Матэматыка, 2011)
Приводятся результаты экспериментального анализа структур полупроводник-металл-диэлектрик (ПМД) методами рентгеновской фотоэлектронной (РФС) и оже-спектроскопии (ЭОС), теоретического описания диффузионных процессов, происходящих в тонкопленочных структурах ПМД, изготовленных последовательным термическим вакуумным напылением на диэлектрик тонких пленок металла (Сd) и полупроводника (SnI2).