Генерирование и пробег двойникующих дислокаций в условиях электропластичности - Савенко, В.С.; Зеленкевич, А.И. (Веснік Брэсцкага ўніверсітэта. Серыя 4. Фізіка. Матэматыка, 2013)
В работе представлены результаты экспериментального исследования кинетики развития двойникования в кристаллах висмута при возбуждении электронной подсистемы металла импульсами тока. Приведен сравнительный анализ стартовых напряжений двойникующих дислокаций в условиях электропластичности металла. Показано, что с ростом плотности тока в импульсе стимулируются процессы генерирования двойникующих дислокаций и их трансляция вдоль готовой поверхности раздела, что открывает возможности дополнительной пластификации двойникующего материала.